極紫外線 (EUV) 平面反射鏡

極紫外線 (EUV) 平面反射鏡為多層反射鏡，設計用於在設計波長及入射角達到最高反射率。這類反射鏡採用於超拋光單晶矽基材沉積的鍍膜，表面粗糙度低於 3Å RMS。45° AOI 反射鏡適合用於轉向 S 偏振光束，5° AOI 反射鏡則可用於非偏振光束。EUV 反射鏡應用包括同調繞射成像 (CDI) 及材料科學研究。極紫外線 (EUV) 平面反射鏡也能作為高諧波產生 (HHG) 光束的諧波選擇器。

請注意：包含各個反射鏡生產運行樣本的測試數據。