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反射性光學產品有利於紫外線、紅外線、寬頻及超快雷射應用 |
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微型化顯微鏡物鏡可打造小型的可攜式顯微鏡系統 |
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整合式液態鏡頭可在成像系統快速自動對焦 |
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體積精巧的極紫外線光源，有助於實現令人興奮的全新應用 |
在先進醫療診斷、機器視覺及半導體加工等市場最新發展的推動下，光學及成像產業持續演進發展。愛特蒙特光學® 在這份每月發表的光學趨勢系列中，特別重點介紹關鍵的光學及成像趨勢，協助相關社群掌握影響力最大的各種創新技術。2018 年最主要的四大趨勢為：適合雷射應用的反射光學元件、微型化顯微鏡物鏡、用於成像的液體鏡頭，以及極紫外線 (EUV) 光學元件。
光學新動態 2018年5月
從雷射手術到光譜儀乃至於微加工等各種應用，都仰賴紫外線、紅外線、寬頻及超快雷射。但光束擴束器這類傳統的穿透光束整型光學元件，不但取決於波長，也因為色散造成不良影響，因此難以找到適合這類不可見光雷射的光學元件。反射性光束擴束器及反射鏡可解決這類問題，透過其中的寬頻消色差設計，消除色像差及球面像差。相較於設計搭配使用特定寬廣或不可見波段的光學元件，反射光學元件也更為經濟實惠。
光學新動態 2018年4月
微型化的精巧顯微鏡物鏡，可縮小顯微鏡系統的尺寸及重量，使其更方便攜帶。這樣就可在現場快速回應各種不同的應用需求，包括水質監控、檢測疾病，以及顯微鏡工業檢驗。簡化的機械構造及精巧的光學設計，打造現代化的微型化物鏡，體積就像一疊硬幣一樣小，因此比傳統大型笨重的顯微鏡系統，更適合用於需要迅速反應的現場工作。微型化顯微鏡物鏡一般採用固定孔徑、小遮板及固定焦距。
光學新動態 2018年6月
液態鏡頭可整合至成像系統以迅速調整焦距，容納高速應用中位於不同高度或工作距離的物體。液態鏡頭由小型光學級液體元件組成，可在應用電流或電壓的情況下，於幾毫秒內變更形狀。產生的曲率變化可改變鏡頭光學功率，進而變更焦距和工作距離。傳統成像鏡頭在需要快速重新對焦的應用中，難以擷取銳利精確的影像，因為這類鏡頭需要機械調整。液態鏡頭可整合至機器視覺及生命科學系統，透過快速重新對焦提升光通量，並針對景深及工作距離進行調整。
光學新動態 2018年7月
體積精巧的新型極紫外線 (EUV) 輻射源，波長大約介於 10 - 100nm，產生無數的新興 EUV 應用，包括分辨率最低 0.5nm 的高分辨率成像、分子及固態動力研究、光學及光電子光譜儀，以及奈米技術的奈米加工。不過開發在 EUV 光譜運作的光學元件並不容易，因為幾乎所有材料都會強力吸收 EUV 輻射，且表面粗糙度必須精密控制，因為散射會在短波長處增加。為了克服以上各種挑戰，開發出所謂的超級拋光反射 EUV 光學元件，擴展光學元件技術的極限。
液態鏡頭可否整合至其他類型鏡頭，例如定焦鏡頭？
可以，我們可根據客戶要求將液態鏡頭整合至其他類型鏡頭。我們還提供模組化Cx系列定焦鏡頭，您可在其中整合可互換的配件 (包括液態鏡頭、固定孔徑及內部濾光片支撐架)。
為何極紫外線 (EUV) 平面反射鏡設計用於 13.5nm？
極紫外線 (EUV) 平面反射鏡設計用於 13.5nm，因為 13.5nm 是最常使用的 EUV 波長之一。微影使用的錫電漿來源於 13.5nm 放射，而其他 EUV 應用也採用此波長作為標準。
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