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極紫外線 (EUV) 球面反射鏡

Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors


  • 在超拋光基材採用鉬/矽多層鍍膜
  • 在 13.5nm 達到最高反射率
  • 專為 EUV 光束聚焦應用設計
  • 適合窄帶通的HHG 應用

極紫外線 (EUV) 球面反射鏡採用多層鉬/矽鍍膜,可在 13.5nm 提供 60% 以上的反射率。這類產品是為 5 度入射角所設計,用於聚焦非偏振的 EUV 雷射光源。表面粗糙度低於 3Å RMS,可將散射降到最低。這是 EUV 波長的必要條件,因為 EUV 波長遭受的散射高於較長波長。EUV 球面反射鏡具有非常窄的帶通,約為 0.5nm,可在高諧波產生 (HHG) 應用中確保只反射所需的 13.5nm 諧波。EUV 球面反射鏡的一般應用包括同調繞射成像 (CDI)、EUV 成像及 EUV 奈米加工。

請注意:包含每個反射鏡生產運行樣本的測試資料。

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