• 小型圖案尺寸 - 100nm 及 3300 lp/mm
• 使用高度精準的電子束微影技術組合而成
• 負片圖案設計

高分辨率顯微鏡載玻片測試板使用高度精準的電子束微影技術設計。圖案蝕刻於 10 × 10mm² 的熔融石英基材，具備廣泛的光譜穿透 (DUV-VIS-NIR) 效果，並於其上方舖設一層高光學密度的鉻。移除鉻層可產生最小 100nm 的圖案。高分辨率顯微鏡載玻片測試板提供優異的尺寸穩定性，安裝於金屬顯微鏡載玻片支撐架。各個測試板的負片圖案，可讓結構變為透明，同時背景則由鉻層遮蔽。

高分辨率顯微鏡 USAF 測試板

高分辨率顯微鏡 USAF 測試板可輕易判定物鏡在穿透光之中的分辨率限制，包含 59 個線條圖案，提供 7.5 至 3300 lp/mm 的水平及垂直對準。本測試板也包含 5 個直徑 4.0-0.25μm 的小孔，可將微成像光學產品詳細特性化。

高分辨率顯微鏡星標測試板

高分辨率顯微鏡星標測試板由 5 個 Siemens 星標組成，顯示星標中心錐形區段精準製造為最小寬度 150nm 的特性。本星標適用於判定孔徑數值非常高的顯微鏡物鏡分辨率。

高分辨率顯微鏡方格板

高分辨率顯微鏡方格板的總尺寸為 9.0 x 9.0mm²，由 50 x 50µm² 方格組成。方格板適用於測試影像變形及彎曲，以及判定直線及銳利邊緣造成的影像品質。