近紅外線 (NIR) 線性偏振薄膜

近紅外線 (NIR) 線性偏振薄膜由耐用的聚合物基材組成，適用於可見光至近紅外線 (400 - 2200nm) 範圍的成像應用。這款偏振聚合物薄膜具備出色的平均穿透率 (39%)，對於在 760 及 2200nm 之間隨機偏振的入射光，更可達到 99.6% 以上的偏振效率。其中提供多種矩形尺寸容納各種光源，從小光束直徑的低功率近紅外線雷射，乃至於更大的 LED 光束。近紅外線 (NIR) 線性偏振薄膜用於工業成像及實驗室應用，亦即減弱低輸出近紅外線雷射及 LED 的強度，或減少近紅外線光電探測器所記錄影像的眩光。偏振軸標示於偏振聚合物薄膜的保護罩上。

注意：首次使用前請移除保護罩。