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Nikon CFI S 平場複消色差螢光超長工作距離 (ELWD) 物鏡

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超長工作距離 (ELWD)
寬光譜穿透率
多模式觀測能力

Nikon CFI S 平場螢光超長工作距離 (ELWD) 物鏡採用超長工作距離設計，可針對大型樣本及不同厚度的培養容器進行高解析度成像。這款物鏡憑藉涵蓋近紫外至近紅外波段的寬光譜穿透率，可於多種先進顯微技術下實現多樣化成像。該物鏡無需浸液介質即可提供更高靈活性，同時於觀察過程中保護脆弱樣本。Nikon CFI S 平場螢光超長工作距離 (ELWD) 物鏡提供多種放大倍率選項，支援亮場、暗場、DIC、相差及偏光顯微等常見觀察模式。這款物鏡非常適用於常規螢光、亮場、鈣成像及 DIC 等應用。

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