261.4nm 雷射用光學元件

用於 261.4nm 雷射的光學元件具有嚴格的表面公差和較高的雷射損傷閾值，可滿足紫外雷射系統的苛刻要求。可提供專為 261.4nm 波長設計的透鏡、反射鏡和窗鏡，為光束聚焦、光束轉向和保護敏感元件提供解決方案。為 266nm 設計的光學元件在 261nm 波長下也適用，包括濾光片、擴束鏡和光束整形光學元件，以及紫外檢測和測量產品。用於 261.4nm 雷射的光學元件非常適合與紫外雷射（如 UVC Photonics 261 型雷射 ）配合使用，應用領域包括紫外消毒系統、生物醫學螢光和紫外拉曼光譜。如果您的應用需要客製尺寸、幾何形狀或鍍膜的 261.4nm 光學元件，請聯絡我們。