10.6µm, 25.4mm, Diffractive Beam Sampler

產品系列說明

• 可產生兩個較高階的光束用於光束監控
• 不易受 X-Y-Z 位移影響
• 相容於單模或多模光束

HOLO/OR 繞射光束取樣器為繞射光學元件 (DOE)，用於監控高功率雷射。輸入雷射光束以零階通過光束取樣器時，會產生兩個較高階的低能量側光束，作為 -1 及 +1 階。這兩個較高階的光束，接下來可引導至偵測器，用於監控雷射光束的輪廓及功率位準。HOLD/OR 繞射光束取樣器供應時採用硒化鋅 (ZnSe) 基材，可搭配使用 CO₂雷射。

請注意：繞射光學元件不應在其設計波長以外範圍使用。繞射光學元件表面若遭油或其他物質弄髒，將會降低效能。操作這類光學元件時，建議一定要配戴手套或指套。

愛特蒙特光學針對雷射應用提供一系列的 HOLO/OR 繞射光學元件，其中包括：

• 繞射漫射器: 用於將輸入雷射光束轉換為均質化分佈的定義形狀
• 繞射分光鏡: 用於將輸入雷射光束分割為 1D 陣列或 2D 矩陣輸出
• 繞射光束整型器: 用於將近乎高斯的雷射光束，轉換為具有均勻平頂強度分佈的定義形狀
• 繞射光束取樣器: 用於穿透輸入雷射光束，同時產生兩個更高階的光束，可用於監控高功率雷射
• 繞射軸稜鏡: 用於將輸入雷射光束轉換為可對焦至環形的貝索光束
• 繞射渦旋相位板: 用於將高斯輪廓光束轉換為甜甜圈形的能量環