25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror

• 設計用於65eV（19nm）下的 330 阿秒脈衝
• 多層鍍膜可達38%峰值反射率
• 表面粗糙度≤1Å 的超精密拋光基材
• 另提供專為 13.5nm 設計的極紫外線（EUV）平面反射鏡 和 極紫外線（EUV）球面反射鏡
• 備有庫存
• 無最低訂購量、無鍍膜批次費用
  
  

UltraFast Innovations （UFI）的極紫外線（EUV/XUV）阿秒多層膜反射鏡設計用於阿秒脈衝的轉向、聚焦及整形。反射鏡的多層膜中心位於65eV（19nm），頻寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續時間為330阿秒的極紫外線（EUV）脈衝。UFI極紫外線（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基於高次諧波（HHG）、自由電子雷射（FEL）或其他量子光學應用及整形阿秒脈衝的理想選擇。

原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長的應用空間中高效精確地控制波長和光譜相位。亞秒科學突破了超快雷射的極限，提供了接觸一些最基本的科學過程的機會，如：電子的運動。極紫外線（EUV）反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外線（EUV）阿秒多層膜反射鏡背後的物理原理是來自多層膜堆疊的每個接環反射和散射 EUV 輻射的干涉。可提供直徑為25.4mm的平面反射鏡及凹面反射鏡；若您的應用需要客製化中心能量、頻寬或其他規格的極紫外線（EUV）多層膜反射鏡，請與我們聯絡。