超快雷射光學元件
 

超快雷射光學元件

真實應用測試

 超快脈衝具有固有的寬頻,因此控制色散至關重要

 必須對超快光學元件的群延遲色散 (GDD) 進行精細的控制

 Edmund Optics® 設計和沉積的超快鍍膜的 GDD 值為 -4,000 - 5,000 fs2

 電介質高反射和抗反射鍍膜以及超快增強銀鍍膜

工藝流程
 
 

生產能力

 高色散反射鏡、低 GDD 光學元件以及擴束鏡

 用於高功率超快雷射器的腔內和腔外光學元件

 第 3 階色散為 0 fs3,或負值低至 -2500 fs3

 經濟高效的超快增強性銀鍍膜在常見超快波長上的 R>99% 且 GDD 低至 0 ±20fs2

 如需 GDD 值低於-100fs2 的選項,可從我們的戰略合作夥伴 UFI 獲得

 

超快量測

  精確測量多層超快光學元件的 GDD

  超寬頻光譜覆蓋範圍從 250 nm到 2100 nm

  入射角在 0-70° 之間時的 GDD 精度為 ±5 fs2

 
 

技術專家

  內部專家擁有多年超快光學製造和超快雷射應用經驗

  可對瞭解所需的 GDD、三階色散及其他規格進行探討

  與 UltraFast Innovations 合作開發最前沿的超快鍍膜

 

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