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近紅外線 (NIR) 線性偏振薄膜

  • 非常適合近紅外線偏振應用
  • 800 - 2200nm 的消光比達 400:1 以上
  • 在波長範圍內達到高效率
  • 耐用的聚合物基材

近紅外線 (NIR) 線性偏振薄膜由耐用的聚合物基材組成,適用於可見光至近紅外線 (400 - 2200nm) 範圍的成像應用。這款偏振聚合物薄膜具備出色的平均穿透率 (39%),對於在 760 及 2200nm 之間隨機偏振的入射光,更可達到 99.6% 以上的偏振效率。其中提供多種矩形尺寸容納各種光源,從小光束直徑的低功率近紅外線雷射,乃至於更大的 LED 光束。近紅外線 (NIR) 線性偏振薄膜用於工業成像及實驗室應用,亦即減弱低輸出近紅外線雷射及 LED 的強度,或減少近紅外線光電探測器所記錄影像的眩光。偏振軸標示於偏振聚合物薄膜的保護罩上。

注意:首次使用前請移除保護罩。

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