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13.5nm, 25.4mm Dia, 45° AOI, EUV Flat Mirror

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Stock #38-760 New
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NT$79,200
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Substrate:
Single Crystal Silicon
Diameter (mm):
25.40 ±0.25
Coating Specification:
R >65% @ 13.5nm
Coating:
Mo/Si Multilayer
Top Layer: Silicon
Coating Type:
Metal/Semiconductor
Angle of Incidence (°):
45
Surface Roughness (Angstroms):
<3 RMS
Thickness (mm):
6.35
Thickness Tolerance (mm):
0.508
Type:
Flat Mirror
Wavelength Range (nm):
12.92 - 13.90
Surface Flatness (P-V):
λ/10 @ 632.8nm
Full Width-Half Max FWHM (nm):
0.50

Regulatory Compliance

RoHS:

產品系列說明

  • 在 13.5nm 達到最高反射率
  • 專為 EUV 光束轉向及諧波分離所設計
  • 提供 5° 及 45° AOI 版本

極紫外線 (EUV) 平面反射鏡為多層反射鏡,設計用於在設計波長及入射角達到最高反射率。這類反射鏡採用於超拋光單晶矽基材沉積的鍍膜,表面粗糙度低於 3Å RMS。45&deg; AOI 反射鏡適合用於轉向 S 偏振光束,5° AOI 反射鏡則可用於非偏振光束。EUV 反射鏡應用包括同調繞射成像 (CDI) 及材料科學研究。極紫外線 (EUV) 平面反射鏡也能作為高諧波產生 (HHG) 光束的諧波選擇器。

請注意:包含各個反射鏡生產運行樣本的測試數據。

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