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能力

專業技能與行業頂尖的設備

無論您需要的是高雷射損傷閾值,公差嚴格控制的雷射光學基片,光學元件還是雷射組裝件,我們都具備專業的知識技能和行業最先進的設備來製造和測試雷射光學件,以滿足您的需求。歡迎聯絡我們經驗豐富的光學工程師,諮詢比較以下表格所示更加精細的產品規格

 
 
 

雷射光學元件

  按圖紙製造與全客製設計

  從原型製造到批量生產

  複雜功能膜層:高雷射損傷閾值、多帶通抗反射、高反射率或部分反射

  適用波長範圍 248nm – 12µm 的抗反射膜,適用波長範圍248nm – 40µm的高反射鍍膜

  採用最先進的量測工藝滿足愈發精細的規格要求

光學鍍膜

愛特蒙特光學(Edmund Optics® )的工程師具備的專業知識可以幫助您根據需求挑選最合適的鍍膜工藝。

 鍍膜曲線示例
這些鍍膜曲線並不是全部能力的總結,而是展示一些愛特蒙特光學(Edmund Optics® )設計鍍膜的範例。

  • 寬頻高反射鍍膜
  • 高反射率 V 鍍膜
  • 三波段高反射鍍膜
  • 低群延遲色散鏡面鍍膜(反射率)
  • 低群延遲色散鏡面鍍膜(GDD)
  • 抗反射 V 型鍍膜
  • 50% 反射率輸出耦合鏡鍍膜

 電子束蒸發鍍膜 (E-Beam)
一種高性價比的鍍膜工藝,適用於多種雷射光學應用

  離子輔助沉積鍍膜 (IAD) 電子束蒸發鍍膜
一種靈活的鍍膜技術可以實現更高的膜層密度以及更好的環境穩定性

 離子束濺射鍍膜 (IBS)
高度可重複、高度穩定的工藝非常適用於高反射率、超快光學以及要求曲線有劇烈過度邊沿的濾波片

  磁控濺射鍍膜
使用低壓鍍膜腔室減少了設備準備時間,並且可以更經濟地對大批量光學元件進行鍍膜處理

光學鍍膜性能
參數規格 數值
尺寸 2 – 457.2mm
通光孔徑 多至100% (取決於基片尺寸 / 形狀/ 公差)
反射率 0.05 – 99.99%(可按需客製ppm等級損耗)
可選抗反射波長範圍 248nm – 12µm
可選增反波長範圍 248nm – 40µm
奈秒脈衝雷射損傷閾值 (LDT) >40 J/cm2 @ 1064nm, 20ns, 20Hz Pulses, 保證
飛秒超短脈衝雷射損傷閾值(LDT) >0.3J/cm2 @ 800nm, 48fs, 100Hz Pulses, 保證
>0.7 J/cm2 @ 800nm, 200fs, 100Hz
>0.4 J/cm2 @ 1030nm, 200fs, 100Hz
>0.9 J/cm2 @ 1030nm, 500fs, 100Hz
群延遲色散範圍(GDD) -4000 – 5000 fs2
耐用性 MIL-PRF-13830B APP C, PARA C.3.8.4, PARA C.3.8.5, MIL-C-48497A
鍍膜工藝 電子束蒸發鍍膜,可選用離子輔助沉積(IAD)、離子束濺射(IBS)
短波通濾光片截止波長 400 – 1600nm
長波通濾光片截止波長 240 – 7300nm
帶通濾光片中心波長(CWL)、光密度(OD)和頻寬 193 – 10,600nm, >OD 7, 1nm - 頻寬
陷波濾光片中心波長(CWL) 355 – 1064nm
反射式中性密度濾光片的光密度 OD 0.1 – OD 3
濾光片中心波長(CWL)的公差 ±1nm
濾光片邊緣公差 <1% 漂移,<0.2% 特殊情況
分光鏡(BS)波長範圍 240 – 20,000nm
偏振分光鏡消光比(S:P) 10,000:1
 

平面光學元件

由各種基片材料製成的反射鏡、窗鏡、濾光片和偏振片。

平面光學元件
平面光學元件加工能力
直徑 5 - 200mm
尺寸公差 +0/-0.010mm
厚度 ±0.010mm
通光孔徑 >90%
表面平整度(P-V) Λ/10 - λ/20
倒角面寬度(表面寬度 @倒角為45 度) <0.25mm
表面光潔度 10-5
表面平行度 <10 弧秒
材料 UV級熔融石英 (Corning HPFS® 7980)、KrF 級熔融石英 (Corning HPFS® 7980)、IR 級熔融石英 (Corning HPFS® 7979)、藍寶石、N-BK7、N-SF5、N-SF11、CaF2
表面粗糙度 默認10 - 15Å,超精密拋光 <1Å
 

透鏡

針對特定雷射波長設計的非球面透鏡, 單球面透鏡和消色差透鏡

平面光學元件
透鏡加工能力
直徑 5 - 200mm
直徑公差 +0/-0.010mm - +0/-0.025mm
非球面面型精度 (P - V) @ 633nm
頂點曲率半徑 (非球面) ±0.1%
峰值斜率誤差 每公釐 0.35μm/mm
中心對齊 (光束偏移) 1 arcmin
中心厚度公差 ±0.050mm
表面質量(劃痕坑點) 10-5
非球面表面測量工藝 輪廓測量(3D)
表面粗糙度 (RMS) 2nm
厚度 ±0.010mm
總體面型誤差 (P - V) λ/2
局部面型不規則度 (P - V): λ/40
 

雷射晶體

晶體切割、研磨、 拋光、 高雷射損傷閾值高透鍍膜以及整修

雷射晶體
雷射晶體性能
尺寸公差 ±0.1mm
形狀類別 長條狀、立方體狀、鋸齒狀
通光孔徑 直徑的 90%
表面質量 10-5
拋光面平行度 <10 分鐘 秒
傾斜面平行度 <3 弧分
垂直度 <5 弧分
面型精度 入射波長 632.8nm 時在整個通光孔徑上為λ/10
切邊防護 不佔用通光孔徑
材料 YAG、YLF、YALO、KTP、LBO、BBO、YVO4、PPSLT、PPLN 以及 Phosphate 摻雜的玻璃
 

稜鏡

提供各種形狀和基材的稜鏡,可應用於高功率光束偏轉。

稜鏡
稜鏡性能
尺寸 2 – 75mm
尺寸公差 +0/-0.01mm
V-Height >±0.03mm
不規則度 λ/20
稜鏡物理角度公差 ±0.5 弧秒
最大倒角面寬度 (表面寬度 @ 倒角為45度) ±0.05mm
表面質量(劃痕坑點) 10-5
膠合稜鏡組裝件引起的光束偏移 0.5 arcmin

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可前往我們的 商城平臺 選購業內最大庫存儲備且可當天發貨的光學元件。

 
 
 

光學組裝件

  僅需 5 週時間即可完成對標準擴束鏡的波長或螺紋改裝

  具備客製擴束鏡、聚焦物鏡及其他雷射光學元件的設計和製造能力

  先進光學組裝件支援主動對準與中心對齊

  針對高能量光學組裝件的無內焦點且無鬼影設計

  從物理光學傳播建模、透鏡元件設計、鍍膜設計、系統組裝到系統測試的完整組裝研發體系。

擴束鏡性能
擴束倍率 >1X - 20X
設計波長 包含所有常用雷射的光譜 Nd:YAG, Yb:YAG, Ti:sapphire 和 Tm/Ho-摻雜光纖雷射以及寬譜。
安裝螺牙 C-接環、M22、M30、可客製
可選聚焦方式 滑動對焦、 旋轉對焦、 定焦
測試 / 設計特殊規格要求 穿透波前誤差、桶中功率、標記物上照射能量測量和聚焦斑尺寸測量。
安裝尺寸 >20mm - 1m
可選系統加固方案 無熱化、抗衝擊與抗震動、抗污染密封
 

組裝專業技能

  從產品概念到批量生產

  快速原型開發

  無塵室中進行組裝

  主動對準與中心對齊

  測試與認證

 

組裝測量工藝

  自主測試測量組裝產品的性能

  穿透波前誤差測量、雷射束剖面圖測量、光線失焦測量

  為特定應用設計測試方案

 

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光學組裝件
 
 
 

超快雷射光學元件

Edmund Optics® 設計並生產適用於超快雷射的抗反射與高反射鍍膜,同時還有超快增強型鍍銀膜可供選擇。

進一步瞭解
超快雷射光學元件
 
 

批量生產

 鍍膜和組件的全客製設計

 高度靈活的批量訂單服務

 具有競爭力的批量定價

 專職工程支援以滿足個性化需求

 
 
 

核心工藝

 

離子束濺射

  反射率>99.99% (可按需客製ppm等級損耗)

  適用溫度變化與潮濕環境,鍍膜可表現出更好的環境適應性

  鍍膜適用波長範圍 355-1600nm

  超快光學鍍膜的群延遲色散 (GDD)可控

 

超精密拋光

  超低表面粗糙度可將散射損耗降至最低

  表面粗糙度均方值 <1Å

  標準尺寸與形狀大小為 12.7 - 50.8mm

  按需求客製尺寸與形狀

  自主研發的量測工藝支援

  百萬分之一級別的光散射率

 
 

紫外損傷與雷射污染

  自主雷射實驗室提供長時間紫外光照射實驗

  雷射污染是紫外雷射系統的主要問題之一

  由於環境或氣密性不良導致的系統污染會顯著降低系統性能甚至導致系統故障

  細緻瞭解系統清潔與組裝技術可以減輕這些影響

 

先進雷射組裝件

  提供出廠前測試,包括穿透波前誤差、桶中功率、標記物上照射能量測量和聚焦斑尺寸測量。

  光學元件組裝過程中主動補償光學元件的偏心與傾斜

  對於精密物鏡、擴束鏡及其他光學組裝件至關重要

  擁有 4 個 ISO 6 級無塵室用於裝配以及1 個 7 級無塵室用於進貨檢驗

 
 

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