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Coherent® LightSmyth™ 奈米圖案矽印模，是由在單晶矽基材製作圖案的奈米級質地表面所組成。透過反應式離子蝕刻技術，在基材表面蝕刻具有梯形截面的線性溝槽，類似於傳統光柵。蝕刻製程可讓溝槽具有不同的週期和深度規格，並可製作晶格等更複雜的圖形。Coherent® LightSmyth™ 奈米圖案矽印模是奈米光子研究應用的理想選擇，適用領域涵蓋光學及光子、生物、化學、奈米壓印及微流控。
注意：II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.
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