更易獲得的紫外(UV)雷射開闢了新可能

 

高能量紫外光可提高精度和性能

 

傳統紫外雷射價格昂貴、體積龐大

 

新一代紫外雷射更小型、更經濟、更易獲得

 

在半導體檢查、顯微鏡和消毒方面取得進展

許多雷射光學應用正在轉向使用更短的紫外波長,因為可以提高解析度,生成非常小而精確的特徵,同時對周圍區域的加熱最小。連續波(CW)紫外雷射的高成本和笨重的尺寸,在許多情況下難以得到應用,尤其是在大學研究中。如今,新一代緊湊型、經濟高效的紫外雷射突破了應用瓶頸,將紫外應用範圍從微機械加工擴大到紫外拉曼光譜及滅活病原體的消毒。

為什麼使用紫外雷射光?

由於聚焦雷射光斑尺寸與波長成正比,紫外雷射光可以獲得比紅外或可見雷射更高的空間解析度。因此可用於半導體工業或微機械加工中的精確缺陷檢測。加工許多材料時,紫外雷射可以直接斷裂原子鍵而非汽化或熔化材料,從而減少外圍加熱。紫外波長的高能量非常適合激發包括蛋白質在內的生物分子的螢光,在廣泛的生物醫學應用中非常有用。此外,紫外雷射可用於高效消毒系統,與紫外燈或 LED 相比,紫外雷射可提供高功率的紫外線輻射(波長在200-280nm之間),表面消毒效果更佳。1

對表面進行消毒以消除潛在的病原體
紫外雷射適用於眾多應用,如:螢光顯微鏡生物醫學系統
圖 1: 紫外雷射適用於眾多應用,包括螢光顯微鏡生物醫學系統(左)及消除潛在病原體的表面消毒工作(右)。1

傳統紫外雷射技術有什麼問題呢?

傳統的連續波(CW)紫外雷射光是使用離子化氬氣作為增益介質或四倍頻近紅外釹雷射來實現。四倍頻系統需要兩個外部諧振腔將初始光束的頻率加倍一次,然後在另一腔體中再加倍一次。2 這些系統很複雜,因與氬離子雷射均為至少兩個鞋盒大小,因此無法用於可?式設備。

新一代無障礙紫外雷射

紫外雷射技術的進步帶來了更小、更經濟實用的設備。UVC Photonics 公司開發的新型摻鐠的氟化釔鋰(YLF)雷射透過頻率加倍而非四倍頻產生 261nm 雷射光束(圖2)。2 這大大降低了系統的複雜性並減少了所需零部件的數量。這些雷射的操作與雷射二極體類似,不需要複雜的電子裝置來鎖定共振腔或穩定溫度。

Compact UV lasers from UVC Photonics consist of a blue pump diode, a praseodymium crystal, another crystal for second-harmonic generation (SHG), and a cavity output mirror.<sup>2</sup><br>Image courtesy of UVC Photonics. Compact UV lasers from UVC Photonics consist of a blue pump diode, a praseodymium crystal, another crystal for second-harmonic generation (SHG), and a cavity output mirror.2Image courtesy of UVC Photonics.
圖 2:UVC Photonics公司的緊湊型紫外雷射由一個藍色泵浦二極體、一個鐠釹晶體、一個用於二次諧波生成(SHG)的晶體和一個腔體輸出鏡組成。2
圖片由 UVC Photonics 公司提供。

UVC Photonics 的雷射在 261nm 波長下連續輸出功率 >10mW, 工作功耗小於 5W,尺寸僅為 22 x 24 x 71mm。1 這些特性使其成為可?式或掌上型系統,以及大學實驗室和工業應用的理想選擇,而其他紫外雷射在這些應用領域成本高昂。氬離子雷射通常消耗10幾千瓦的功率,並產生10W的功率,而四倍頻紫外雷射可以產生高達 500mW 或更大的功率。雖然舊技術可以達到更高的功率,但過大的尺寸和高昂的成本使其對某些應用的吸引力降低。這些二極體模組的窄線寬和連續波功能也非常適用於 UV 紫外拉曼光譜。更多資訊可前往 UVC Photonics网站 查看。

Edmund Optics 的紫外雷射光學元件

Edmund Optics 設計和製造廣泛的雷射光學元件,包括專為紫外光波長量身訂做的元件。嚴格的表面公差與高雷射損傷閾值使得紫外雷射光學元件可以滿足紫外雷射系統的苛刻需求。許多設計用於 266nm(Nd:YAG 雷射的第四次諧波)的光學元件在 261nm 處也能很好地運行。客製化的鍍膜和部件的幾何形狀也可以依照特定應用進行客製。

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Nd:YAG 雷射光反射鏡

  • 在 Nd:YAG 諧波頻率下(包括266nm)的反射率 >99.2%
  • 高雷射損傷閾值規格
  • 10-5 的表面質量,可在敏感的雷射應用減少散射
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雷射光凹面鏡

  • 是聚焦雷射的理想選擇
  • 在中心波長的反射率 >99.8%
  • 採用熱穩定性高的熔融石英基材
  • 可提供 266nm 的設計
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IBS 鍍膜雷射光反射鏡

  • 用於低損耗和高反射率的 IBS 反射鏡鍍膜
  • 經認證的高雷射損傷閾值
  • 採用超拋光基材可提供百萬分之一級散射性能
  • 可提供 266nm 的設計
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精密紫外反射鏡

  • 設計波長 120nm 和 190nm
  • 在指定範圍內平均反射率 >85%。
  • 增強金屬鍍膜在可見光區域的寬頻反射率
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精密球面紫外反射鏡

  • 設計波長 120nm 和 190nm
  • 聚焦 VUV 或 DUV 光的理想選擇
  • 從可見光和紅外波段的寬頻波段反射率
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雷射光 λ/20 高精度直角反射稜鏡

  • 在設計波長下反射率 >99.5%
  • 15弧秒的角度公差
  • 熱穩定性高的基材
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雷射光等級平凸(PCX)透鏡

  • 經認證的雷射損傷閾值
  • 表面質量 10-5
  • λ/10 表面精度
  • 266nm設計
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雷射級雷射光柱面透鏡

  • Nd:YAG 諧波反射率 <0.25%
  • 熔融石英基材
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硬質鍍膜 OD 4 5nm 帶通濾光片

  • 提供各種紫外線、可見光及近紅外線雷射光
  • 具備深入攔截及高穿透能力
  • 陡峭的穿透及攔截坡度
  • 同時提供硬質鍍膜 OD 4 10nm、25nm 和 50nm 帶通濾光片
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λ/20高功率雷射光窗鏡

  • 提供266nm、355nm、532nm及1064nm選項
  • 自發螢光低
  • 損傷閾值高達 10 J/cm 2 (在 10ns 及 1064nm 情況下)/li>
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λ/10 雷射光鍍膜窗鏡

  • 表面質量 10-5
  • 設計波長下的損傷閾值
  • 直徑從 12.5mm 到 50.8mm 可供選擇
  • 可提供 266nm 的設計
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織女星(Vega™)雷射光擴束鏡

  • 用於雷射波長的抗反射鍍膜:266Nm、355nm、405nm、532nm、1064nm 和 1940nm
  • 可提供 1.5 倍至 20 倍的固定放大率
  • 可透過旋轉光學設計調

參考文獻:

  1. UVC Photonics (2021). Deep Ultraviolet Laser Modules. UVC Photonics 公司。 www.uvcphotonics.com.
  2. Buchter, Scott (2021). Compact deep-ultraviolet CW lasers lead to new commercial applications. Laser Focus World. www.laserfocusworld.com/lasers-sources/article/14205517/compact-deepultraviolet-cw-lasers-lead-to-new-commercial-applications.

常見問題

FAQ  為什麼 UVC Photonics 公司使用的雷射技術沒有得到更廣泛的應用?
在達到商業用途所需的質量和一致性的同時,生長用於新一代紫外雷射的摻鐠氟化物晶體是一項非常具有挑戰性的工作。2 UVC Photonics 公司之所以能在行業中脫穎而出,是因為有能力正確生長這些晶體。
FAQ  一些應用是否正轉向小於 261nm 的波長?

是的,某些高精度的實驗室應用正在向 10-100nm 的極紫外(EUV)波長發展,儘管這在工業上尚未廣泛使用。有關這一趨勢的更多資訊,可在此 查看。

FAQ  與紫外雷射一起使用的光學元件是否會隨著時間的推移而退化?

是的,紫外雷射輻射的高能量隨著時間的推移會使光學鍍膜和基材退化,這本質上使得紫外雷射光學元件成為一種耗材。

技術資源

應用要點

技術資訊和應用範例,內容包括理論說明、公式、圖片說明等。

紫外光學:文章:《更嚴格的公差和不同的材料》
閱讀  

文章:《為什麼雷射損傷測試對紫外線雷射應用至關重要》
閱讀  

文章:《瞭解並指定雷射元件的 LIDT》
閱讀  

文章:《雷射系統的關鍵參數》
閱讀  

文章:《雷射光學的量測學》
閱讀  

影片

含有豐富資訊的企業影片或教學影片,涵蓋從簡單小提示到以基於應用展示產品優點等內容。

雷射光學實驗室介紹
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Edmund Optics 的量測能力:量測是製造的關鍵環節
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線上研討會

由Edmund Optics 專家團隊專門錄製的網路研討會影片,內容涵蓋廣泛的光學和成像主題。

雷射應用中的高反射率反射鏡
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超低表面粗糙度拋光
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