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內部批量鍍膜能力從 248nm 到 >40µm
從紫外到長波紅外光譜範圍的客製化鍍膜設計
成熟合作夥伴覆蓋 13.5 nm至 157 nm的紫外線範圍
防反射、高反射、濾光片、偏振、分光鏡和金屬鍍膜設計
高雷射損傷閾值 (LDT) 和超快雷射鍍膜
類金剛石碳鍍膜 具有高硬度、抗劃痕和抗腐蝕性能
光學鍍膜是成品光學元件或元件的關鍵部分。精確的光學鍍膜設計和生產意味著部件是會在現場失效,還是能在專案的預期壽命內持續工作。Edmund Optics® 在為生命科學應用和醫療設備、惡劣環境成像組件以及整個紫外線 (UV)、可見光 (VIS) 和紅外線 (IR) 光譜區的應用生產鍍膜方面具有廣泛的鍍膜能力和專業知識。所有光學元件都在無塵室環境中經過精心清潔、鍍膜和檢驗,並符合客戶指定的環境、熱和耐用性要求。有關光學鍍膜選項的更多資訊,請聯絡我們。
愛特蒙特光學(Edmund Optics®) 內部鍍膜設施可完成數十種標準庫存產品的抗反射鍍膜,還可提供更廣泛的光學鍍膜客製化服務。如果我們的標準鍍膜選項不適用於您的應用,可以為您設計客製化鍍膜。
| 一般鍍膜性能 | |||
|---|---|---|---|
| 尺寸(直徑或方形) | 2 – 1000mm | ||
| 反射率 | 0.1 – 99.98% | ||
| 抗反射波長範圍 | 248 – 12,000nm | ||
| 高反射率波長範圍 | 13.5 – >40,000nm | ||
| 群延遲色散範圍(GDD) | -4000 - 5000 fs2 | ||
| 短波通濾光片截止波長 | 400 – 1600nm | ||
| 長波通濾光片起始波長 | 240 – 7300nm | ||
| 帶通濾光片中心波長(CWL)、光密度(OD)和頻寬 | 193 – 10,600nm、 >OD 7、 1nm – 寬頻 | ||
| 陷波濾光片中心波長(CWL) | 355 – 1064nm | ||
| 反射式中性密度濾光片的光密度OD | OD 0.1 – OD 3 | ||
| 濾光片中心波長(CWL)的公差 | ±1nm | ||
| 濾光片邊緣公差 | 偏移 <1% 、特殊情況下 <0.2% | ||
| 分光鏡(BS)波長範圍 | 240 – 20,000nm | ||
| 偏振分光鏡消光比(S:P) | 10,000:1 | ||
| 雷射損傷閾值 (LIDT) | >40 J/cm2 @ 1064nm @ 20ns @ 20Hz 脈衝、測量 | ||
| 耐用性 | MIL-PRF-13830B APP C, PARA C.3.8.4, PARA C.3.8.5, MIL-C-48497A | ||
Edmund Optics® 在美國、日本和新加坡的生產基地擁有最先進的光學鍍膜設施,其能力包括
Edmund Optics® 透過執行一系列測試,以確保我們的庫存和客製光學鍍膜具有最佳性能。鍍膜量測設備:
